中国 は , 世界 的 な 制限 の 中 で も チップ の 独立 を 促進 し て , EUV 石版 印刷 機 を 開発 し て い ます。 China builds prototype EUV lithography machine, advancing chip independence amid global restrictions.

2025年1月1日閲覧. ^ 中国の研究者が、オランダのASMのテクノロジーを逆転させることにより,高性能半導体チップの製造に重要なステップである極度の紫外線 (EUV) リトグラフィックスマシンのプロトタイプを完成させた. In early 2025, Chinese researchers in Shenzhen completed a prototype extreme ultraviolet (EUV) lithography machine, a key step in producing advanced semiconductor chips, by reverse-engineering Dutch company ASML’s technology. 元 ASML 技師 が 製作 し た この 機械 は EUV 光 を 発生 さ せ , 工場 の 床 の 上 で 作動 し ます が , まだ 作業 チップ は 生産 さ れ て い ませ ん。 Built by former ASML engineers, the machine generates EUV light and operates on a factory floor but has not yet produced working chips. このプロジェクトは,習近平大統領のアドバイザーである丁・スエシアン率いる6年間の国家努力の一環で,ファーウェイと国営研究室が関与しており,米国とオランダの輸出規制のなか,半導体自給自足を達成することを目指しています. The project, part of a six-year national effort led by President Xi Jinping’s advisor Ding Xuexiang and involving Huawei and state labs, aims to achieve semiconductor self-sufficiency amid U.S. and Dutch export controls. なお中国は,主な技術的課題に直面しているが,特に精密な部品では,進歩の速さは10年連続の予測よりも早くなり,現在では2030年までに作業チップを発明している専門家もいる. While China still faces major technical challenges, particularly in precision components, the breakthrough suggests progress may be faster than earlier estimates of a decade-long timeline, with some experts now projecting a working chip by 2030.