ImecはEUVリトグラフィを用いて 超小型で均一なナノポールを大量生産し ゲノム学と医学のためのバイオセンサを 進歩させています Imec mass-produces ultra-small, uniform nanopores using EUV lithography, advancing biosensors for genomics and medicine.

Imecは,300mmのシリコンウェファーのEUVリトグラフィを使用して,最初の固体ナノポールのウェファースケール生産を達成し,10ナノメートル以下のサイズで,5nm未満のサイズを持つ可能性のある10ナノメートルほどの高度に均一なナノポールの大量生産を可能にしました. Imec has achieved the first wafer-scale production of solid-state nanopores using EUV lithography on 300mm silicon wafers, enabling mass production of highly uniform nanopores as small as 10 nanometers with potential for sizes below 5nm. CMOS対応プロセスは,過去のスケーラビリティと変性課題を克服し,6.2の信号対ノイズ比を生成し,分子転位検出の強力な性能を示しています. The CMOS-compatible process overcomes past scalability and variability challenges, yielding a signal-to-noise ratio of 6.2, indicating strong performance for detecting molecular translocations. ゲノム,診断,個人用医療,分子データ保存の応用により ナノポレ技術が研究から実用化され 大規模利用へと発展します This breakthrough paves the way for high-throughput biosensor arrays with applications in genomics, diagnostics, personalized medicine, and molecular data storage, transforming nanopore technology from lab research to practical, large-scale use.