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flag 世界的な半導体リトグラフィー市場は,AIと電子機器の高性能チップの需要に駆られて急激に成長しており,EUV技術が展開を推進している.

flag 半導体リトグラフィーの世界市場は急速に拡大しており,AI,データセンター,コンシューマー電子機器における先進チップの需要により,精密機器市場は2024年の2617億ドルから2031年までに4283億ドルに成長すると予測されています. flag EUVとDUVのリトグラフィー技術は鍵ファクタリングであり,EUVが小さなチップのノードで使われることにより成長を促進している. flag EUVマスク市場も上昇しており,2031年までに1億2,200万円に到達すると見込まれ,半導体産業の進歩と政府の支援によって燃やされている. flag アジア・パクシフィックは,中国,日本,韓国,台湾における強い製造基地が支援する生産と成長を目指す。 一方,北アメリカとヨーロッパは,R&D及び高性能製造技術にとって不可欠である.

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