EUVリトグラフィーのグローバル需要が高まっているのは,国がAIと5Gのチップ製造を拡充する際である. Global demand for EUV lithography is rising as nations expand chip manufacturing for AI and 5G.

極紫外線 (EUV) 製版の需要は,日本,ドイツ,インド,インドネシア,中国,フランスなどの国がAI,5G,IoTにおける先進チップの需要を満たすために半導体製造を加速する中で,世界的に急増しています. Global demand for extreme ultraviolet (EUV) lithography is surging as countries including Japan, Germany, India, Indonesia, China, and France accelerate semiconductor manufacturing to meet rising needs for advanced chips in AI, 5G, and IoT. 政府の支援、R&D投資、戦略的連携により、これらの国はEUVの養子縁組を拡大し、7nm以下の、より小さく効率的なマイクロチップを生産している。 Driven by government support, R&D investments, and strategic partnerships, these nations are expanding EUV adoption to produce smaller, more efficient microchips at 7nm and below. 高コストや技術的な複雑さなどの課題にもかかわらず,EUVの設備,材料,インフラの進歩は生産と性能を向上させ、これらの国々を世界的な半導体産業の重要な選手として位置づけている。 Despite challenges like high costs and technical complexity, advancements in EUV equipment, materials, and infrastructure are boosting yields and performance, positioning these countries as key players in the global semiconductor industry.