SKハイニックスは高度なEUV技術を導入し,ミュージアムを縮小し,メモリ生産を強化する. SK Hynix introduces advanced EUV tech, shrinking transistors and boosting memory production.

SKハイニックスが韓国のM16工場で大量生産のためのハイNA EUV リトグラフィックス技術の導入が初めてになった. SK Hynix has become the first to introduce High NA EUV lithography technology for mass production at its M16 plant in South Korea. この新制度 ASML'TWINSCAN EXE:5200B は,既存のEUVシステムに比べて1.7倍小ささと密度が2.9倍高いものを可能にしている. This new system, ASML's TWINSCAN EXE:5200B, allows for transistors 1.7 times smaller and densities 2.9 times higher compared to existing EUV systems. SKハイニックスは生産プロセスを簡略化し,次世代のメモリ開発を加速し,この高度なテクノロジーで市場の地位を強化することを目的としている. SK Hynix aims to simplify production processes, accelerate next-gen memory development, and strengthen its market position with this advanced technology.