ヒッチハイクは,正確な3D半導体製造のため,DCR Etchシステム9060を新たに発射する. Hitachi launches new DCR Etch System 9060 for precise 3D semiconductor manufacturing.
Higa-Tech 株式会社 DCR Etch システム 9060シリーズを導入 正確なイオトロピック 3D 半導体装置の精密化を目的としている Hitachi High-Tech Corporation has introduced the DCR Etch System 9060 Series, designed for precise isotropic etching of advanced 3D semiconductor devices at the atomic level. このシステムは 低損傷で高精度の結果を得るためのプラズマエッチング技術を使用し,効率を高めるためのユニークな冷却メカニズムが含まれています. This system uses plasma etching technology for low-damage, high-precision results, and includes a unique cooling mechanism to enhance efficiency. これ は , 複雑 な 半導 体 の 製造 業者 が 費用 を 削減 し , 生産 性 を 向上 さ せる こと を 目的 と し て い ます。 It aims to help manufacturers of complex semiconductors reduce costs and improve productivity.